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二手 日本電子 JSM-7610F plus場發(fā)射電鏡 掃描電子顯微鏡被廣泛應用在納米技術、金屬、半導體、陶瓷及醫(yī)學生物學等各種各樣領域里，而且它的用途越來越廣。為了對應在高分辨條件下的材料微細結(jié)構(gòu)解析，提高JSM-7610F的分辨率，對電子光學系統(tǒng)做了重新研究。半浸沒式物鏡和大電流下高穩(wěn)定性的in-lens熱場發(fā)射電子槍的wan美組合，使得該設備兼具超高分辨率觀察和高空間分辨率分析的能力。

二手 日本電子 JSM-7610F plus場發(fā)射電鏡主要特點

1.具有高分辨能力的半浸沒式物鏡（Semi-in-lens）

半浸沒式物鏡能將電子束收縮的很細，即使在低加速電壓下也能實現(xiàn)高分辨。

2.采用GENTLEBEAM™模式，低加速電壓下的Z表面觀察

GENTLEBEAM™模式（GB mode）是通過給樣品加以偏壓使得電子束在到達樣品前減速的功能來實現(xiàn)低加速電壓下的有效觀察和分析。

3.r-filter信號選擇

通過r-filter選擇樣品上產(chǎn)生的二次電子和背散射電子信號進行檢測。

4.LABE探頭（可選件）檢測低角度背散射電子像

LABE（Low Angle BE）探頭檢測低角度的背散射電子，在低加速電壓下能觀 察樣品表面的微細的凹凸信息，在高加速電壓下能觀察樣品的組成信息.

5.High Power Optics高能光學系統(tǒng)

大電流下高穩(wěn)定性的in-lens熱場發(fā)射電子槍和全電流范圍內(nèi)自動優(yōu)化束徑的ACL的wan美組合，能夠進行穩(wěn)定的觀察和分析.

主要技術規(guī)格

分辨率（SEI）	0.8nm（15kV） 1.0nm（1kV， GB模式） 能譜分析時，3.0nm（15kV、WD8mm、照射電流5nA）
倍率	×25～×19,000（LM模式） ×130～×1,000,000（SEM模式）
加速電壓	0.1kV～30kV
照射電流	數(shù) pA～200nA
電子槍	In-lens熱場發(fā)射電子槍

本公司售后服務保障

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